拋光機的（de）拋光速率低解（jiě）決這個矛（máo）盾的最（zuì）好的辦法就是把拋（pāo）光分為兩個階段進（jìn）行。

　　粗拋目的是去（qù）除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率（lǜ），粗（cū）拋形成的表層損傷是（shì）次要（yào）的考慮，不過也應當盡可能小;其次是精拋(或稱終拋)，其目（mù）的是去除粗拋產生的表層損傷，使拋光損傷（shāng）減到最小。拋光機拋光時，試樣磨（mó）麵與拋光盤應絕（jué）對平（píng）行並均勻地（dì）輕壓在拋光盤上，注意防止試（shì）樣飛出和因壓力太大而產生新磨痕（hén）。

　　同時，還應使試樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移動，以避（bì）免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要（yào）不斷添加微粉懸浮液（yè），使拋光織物（wù）保持一定濕度。濕（shī）度太大會減弱（ruò）拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬（shǔ）夾雜物及（jí）鑄鐵（tiě）中（zhōng）石墨相產（chǎn）生“曳尾”現象;濕度太小時，由於摩擦（cā）生熱（rè）會使試樣升溫，潤滑作用減小，磨麵失（shī）去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會（huì）拋傷表麵。

　　當然，我們為了達到粗（cū）拋的目的，要求轉盤（pán）轉速較低，最好不要超過600r/min;拋（pāo）光時間應當比去掉劃痕所需的（de）時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋後磨麵光滑，但黯淡無光（guāng），在顯微鏡下（xià）觀察有均勻細致的磨痕，有（yǒu）待精拋消除。