拋光（guāng）機的拋（pāo）光速率低（dī）解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋（pāo）光分（fèn）為兩個階段進行。

　　粗拋目的（de）是去除磨光損（sǔn）傷層，這一階段應具有最（zuì）大的拋光速率，粗拋（pāo）形成的（de）表層損傷是次要的考（kǎo）慮，不過也應當（dāng）盡可能小;其次是精拋(或稱（chēng）終拋)，其目的是去除（chú）粗（cū）拋產生的表（biǎo）層損傷，使拋光損傷減到（dào）最小。拋光機拋光時，試樣磨麵（miàn）與拋光盤應絕對（duì）平行並均勻地輕壓在拋光盤上，注意防止試樣飛（fēi）出和因壓力（lì）太大而產生新磨痕。

　　同時，還（hái）應（yīng）使試（shì）樣自轉並沿轉盤半徑方向來回移動，以避免拋光織物局部磨損太（tài）快在拋光過程（chéng）中要（yào）不斷添加微粉懸浮液，使拋光（guāng）織（zhī）物保持一定濕度。濕度太大會減弱（ruò）拋光的磨痕（hén）作用，使試樣中硬相呈現浮凸（tū）和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵（tiě）中石墨相（xiàng）產生“曳尾”現象;濕（shī）度（dù）太小時，由於摩擦生熱（rè）會（huì）使（shǐ）試樣升溫（wēn），潤（rùn）滑作用減小，磨麵失（shī）去光澤，甚至出現黑斑，輕合金則會拋傷表麵。

　　當然，我們為了（le）達到粗拋的目的，要求轉盤轉（zhuǎn）速較低，最好不要（yào）超過600r/min;拋光時間應當（dāng）比去掉劃痕所需的時間長些，因為（wéi）還（hái）要去（qù）掉變形層。粗拋後磨麵光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下（xià）觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋消除。