磨削之研磨拋(pāo)光、磨粒流與珩磨的區(qū)別
1、磨粒流(liú)工藝
磨(mó)料流加工(AFM)工藝是理想的拋光和去(qù)毛刺方法,特(tè)別是對(duì)於複雜的內部形狀和有挑戰的表麵加工要求。
磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱為(wéi)擠壓珩磨技(jì)術,起源於20世紀60年代(dài),是一(yī)種區別於傳(chuán)統機械加工(gōng)的光整加工方法。利用具有一定黏性(xìng)的流動磨料(liào)介質,在一定壓力作用下,通過(guò)引導流過工件(jiàn)的待加工表麵,磨料對材料形成(chéng)擠(jǐ)壓並進行(háng)微量去除,可以達到去除毛刺飛邊、孔口倒圓等加工效果,重要的是可以降低待加工表麵的粗糙度(dù)值,實現光整加工目的。得益於塑性極強的磨料,這種加工技(jì)術(shù)幾乎可以對任意(yì)形狀的(de)表麵(miàn)進行光整(zhěng)加工,尤其是針對難以加工的複雜內腔表麵,能取得較好的光整加工(gōng)效果,近年來這種技術在(zài)航空、航天、汽車和模具等行業(yè)得到了廣泛應用(yòng)。
1—活塞 2—工(gōng)件 3—夾具 4—缸體
1.1工藝係統
磨粒流,簡單來說,就是一種通過半流(liú)體介質進行拋光去毛刺的工藝,主要(yào)麵(miàn)向內孔、以及不規則形狀的中小型工件。磨(mó)粒流拋(pāo)光工藝包含三個核(hé)心要素,即軟(ruǎn)磨料、夾具與PLC係統:
軟(ruǎn)磨料(liào)
軟(ruǎn)磨料是由非常細小的(de)硬質顆(kē)粒,混合相關液體,調製而成的半流體狀態(tài)的介質,磨料顆(kē)粒的(de)大小、硬度,以及半流體(tǐ)的粘稠度、遇熱後是否(fǒu)會黏貼工件,是影響拋(pāo)光去毛刺質量的關鍵。磨料通(tōng)常選材有碳化矽、白剛玉、金剛石等,根據(jù)各自(zì)的硬度,對應不(bú)同材質的工件。例如鋁製品、銅(tóng)製品工件(jiàn),選用碳化矽磨料(liào)即可。而硬度較高的(de)鎢(wū)鋼、合金(jīn)鋼,選(xuǎn)用白剛玉或金剛石更為合適。
工(gōng)裝夾具
選用夾具的原因是,為了提(tí)高工件拋光去毛刺的效率。一(yī)來,一(yī)款夾具(jù)上可以同時夾持多個工件,一(yī)次性加(jiā)工。二來,使用工(gōng)裝夾具後,退模換工件時,不必每次校準,大大減少(shǎo)了停機時間。
工裝夾具設計的關鍵(jiàn)在於,在提升效率的前提(tí)下,如何保持工件均勻受力,而不致於使工件壓傷。
PLC係統
PLC係統是整(zhěng)個磨粒流設備(bèi)的(de)控製中心,PLC係統設計地簡潔、規範,既可以讓操作人員更快上手,減少培訓磨合時間(jiān),又可以減少(shǎo)設備故障率,延長設備使用壽命。
1.2磨粒流(liú)特點
(一)可加工內腔複雜的零件
(二)均勻性和重複性好
(三)可(kě)實現自動化生產
(四)生產效率高
(五)可控性及可預測性好
(六)加工表(biǎo)麵質好
1、研磨
研磨是將研磨工具(jù)(以下(xià)簡稱研具)表麵嵌人磨料或敷塗磨料並添加潤滑劑(jì),在一定的壓力作用下(xià),使工件(jiàn)和研具接(jiē)觸並做相對運動,通(tōng)過磨料作用(yòng),從工件表麵切去一層極(jí)薄的切屑,使工件具有精確的尺寸、準確的幾(jǐ)何形狀和很高的表麵粗糙度,這種對工件表麵(miàn)進行最終精密加工的方法,叫做研磨。
1.1研磨的種類
濕(shī)研將液狀研磨劑塗敷或連續加(jiā)注於研具表麵,使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研具間不斷地滑(huá)動與滾(gǔn)動,從而實現對工件的切削。濕研應用較多。
幹研將磨料(W3.5~W0.5)均勻地壓嵌(qiàn)在研具表層上,研磨時需在研具表麵塗以少量的潤滑劑。幹研多用於精研。
半幹研所用研磨劑為糊狀的研磨膏,粗、精研均可采用。
1.2研磨的特點及應(yīng)用範圍
設備(bèi)簡(jiǎn)單,精度要求高(gāo)。
加工質量可靠。可獲得很高(gāo)的精度(dù)和很低的(de)Ra值。但一般不(bú)能提高加工麵與其(qí)他表麵之間的位置精度。
可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁及其合金、硬質合金、陶(táo)瓷、玻璃及某些塑料製品等。
研磨廣泛用於單件小批生產中加工各種高精度型麵,並可用於大批大量生產(chǎn)中。
1.3研磨(mó)機理
研磨的實質是(shì)用遊(yóu)離的磨粒通過研具對工件表麵進行包括物理和化學綜(zōng)合作用的微量切前,其速度很(hěn)低,壓力很小,經過研磨的(de)工件可(kě)獲得0.001mm以內的尺(chǐ)寸誤差,表麵粗(cū)糙度一般能達到R.=0.4~0.1μm,最小可達Ra=0.012μm,表(biǎo)麵幾何形狀精度和一(yī)些位置精度也可進一步提高(gāo)。
盡管研磨已廣泛應用於機械加工(gōng)中,並且獲得了最佳的工藝效果,但人們對研磨過程的機(jī)理有多種觀點。
純切削說
這種(zhǒng)觀點認為:研磨和磨削一樣(yàng),是一種純切削過程。最終精度的獲得是由很多(duō)微小的硬磨粒對工件表麵不斷切削,靠磨粒(lì)的尖(jiān)劈、衝(chōng)擊、刮削和擠(jǐ)壓作(zuò)用,形成無數條切痕重疊、互相交(jiāo)錯、互相抵消的加工麵。它與磨削的差別隻是磨粒(lì)顆粒較細,切削運動不盡相同(tóng)而已。這種觀點(diǎn)在實際(jì)過程中可以解釋許多現象,也能指導工作。例如,研磨過程中使用的磨料粒度一序比一序細,而獲得的精度則一序(xù)比一序高(gāo)。但這種觀點解釋不了用軟磨料加工硬材料,用大顆粒磨粒卻能加工出低粗糙度表麵的實例,顯然這(zhè)種(zhǒng)觀點不(bú)全麵。
塑(sù)性變形說
這種觀點認為在研磨時,表麵(miàn)發生了級性變形。即在工件與研具表麵接觸運動中,粗糙高凸的部位(wèi)在摩擦、擠壓作用下被“壓平”,填(tián)充了低四處,而後形成極(jí)低的表麵粗糖度。住然而在研磨極軟材料(如鉛(qiān)、錫等(děng))時,產生塑性變形是有可能的;而用軟基體拋光(guāng)硬材料(如光學玻璃)時,則很難解釋為塑(sù)性變形(xíng)。實際上,工件在研磨前後有質量變(biàn)化,這說明不是簡單的壓平過程。
化學作用說
這種觀點認為(wéi):被研磨表麵出現了化學變化過程。工件(jiàn)表麵活性物質在化學作用下,很(hěn)快就形成了一層化合物薄膜;這層薄膜具有化學保護作用,但能被(bèi)軟質磨料除掉。研磨過程就是工件表麵高(gāo)凸部位形成(chéng)的化合物(wù)薄膜不斷被除(chú)掉又很快形成(chéng)的過程,最後獲得較低的表麵粗糙度。然而,顯微分析表明,經研磨的表層約(yuē)有微米程度(dù)的(de)破壞層。這說明研磨不僅(jǐn)是磨料去除(chú)化合物薄膜的(de)不斷形(xíng)成過(guò)程,並且對表(biǎo)麵(miàn)層有切削作用(yòng),而化學(xué)作用則加速(sù)了研磨過程。顯然化學作用說也不全麵。
綜上所述,研磨過程不(bú)可能(néng)由一種觀點來解釋。事實上,研磨是磨粒對工(gōng)件表麵的切削、活性物質的化學作用及工件(jiàn)表麵擠壓變形等綜合作用的結果。某一作用的主次(cì)程度取決於加工性質(zhì)及加(jiā)工過程的進展階段。
2、拋光(guāng)
拋光是指利用機械、化學或電化學的作用,降低工件表麵(miàn)粗糙度,獲得光亮、平整表(biǎo)麵的加(jiā)工方(fāng)法。主要是利用拋光工具和磨料顆粒(lì)等對工件表麵進(jìn)行的修飾加工。
2.1拋光的分類
機械拋光(guāng)
機械拋(pāo)光是靠切削或使材料(liào)表麵發生塑性變形而去掉(diào)工件表麵凸出(chū)部得到平滑麵的拋光方法,一般使(shǐ)用油(yóu)石(shí)條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,表麵質量要(yào)求高的可采用超精研拋的方法(fǎ)。超精研(yán)拋是采用特製的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓(yā)在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該(gāi)技術可達到Ra0.008 μm的表(biǎo)麵粗糙度,是各種拋光方法中表(biǎo)麵(miàn)粗糙度(dù)最好的。光學鏡片模具常采(cǎi)用這種方法(fǎ)。
化學拋光
化學拋光是材料在化學介質中讓表麵微觀凸出的部分較(jiào)凹部(bù)分優先溶解,從而得到平滑麵。該方法(fǎ)可以拋光形狀複雜的工件,可以同(tóng)時拋(pāo)光很多工件,效率高。化學拋光得到的表麵粗糙度(dù)一(yī)般為Ra10 μm。
電解拋光
電解拋光基(jī)本原理與化學拋光相同,即靠選擇性溶解材料表麵微小(xiǎo)凸出(chū)部分,使表麵光滑(huá)。與化學拋光相比,它可(kě)消除陰(yīn)極(jí)反應的影響,效果較好。
超聲波拋光
超(chāo)聲拋光是利用工具斷麵作超(chāo)聲波振動,通過磨料懸浮液拋光脆硬材料的一種加工方法(fǎ)。將工(gōng)件放入磨料懸浮液中並一(yī)起置於超聲波場中(zhōng),依靠超聲波(bō)的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。
流(liú)體拋光(guāng)
流體拋光(guāng)是依靠流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。流(liú)體動(dòng)力研磨是由液壓驅動(dòng),介質主要采用在較低壓力下流過性好的特(tè)殊化合物(wù)(聚合物狀物質)並摻入磨料製成,磨料(liào)可采用碳化矽粉末。
磁(cí)研磨(mó)拋光
磁研磨拋(pāo)光是利用(yòng)磁性磨(mó)料在磁場作(zuò)用下形成磨(mó)料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容易控製。。
電火花超聲複合拋光
為(wéi)了提高表麵粗糙度Ra為1.6 μm以上工件的拋光(guāng)速度,采用超聲波與專用的高頻窄脈衝高峰值電流的(de)脈(mò)衝電(diàn)源進行複合拋(pāo)光(guāng),由(yóu)超聲振動和電脈衝的腐蝕同時作(zuò)用於工件表(biǎo)麵,迅速降低其表麵粗糙度。
2.2拋光的工藝過程
粗拋
精銑、電火花加工、磨削等工藝後的表麵可以選(xuǎn)擇轉速(sù)在35 000~40 000 r/min的旋轉表麵(miàn)拋光機進行拋光。然後是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。使(shǐ)用順(shùn)序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。
半精拋
半精拋主要使用砂(shā)紙(zhǐ)和(hé)煤油。砂紙的號數依次為(wéi):400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙隻用(yòng)適於淬硬的模(mó)具鋼(52 HRC以上),而不適(shì)用於預硬鋼,因為這(zhè)樣可能會導致預硬鋼(gāng)件表麵損傷,無法達(dá)到預(yù)期拋光效果。
精拋
精拋主要(yào)使用(yòng)鑽石研磨(mó)膏。若用拋光布輪混合鑽(zuàn)石(shí)研(yán)磨(mó)粉或研磨膏進行研磨(mó),則通常的(de)研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研磨膏和拋(pāo)光布輪可用來去除1 200#和1 50 0#號砂紙留下(xià)的發(fā)狀磨痕。
4、珩磨
在對零件加工的過程中,會使用到多種工藝,其(qí)中(zhōng)珩磨加工是對(duì)孔進行(háng)精(jīng)整加工的一種加(jiā)工方式。
珩磨工藝是一(yī)種以(yǐ)被加工麵為導(dǎo)向,在一定進給壓力下,通過工具和零件的相對運動(dòng)去除(chú)加工餘量,其(qí)切(qiē)削軌跡為交叉網紋的精孔加工工藝。
3.1珩磨原理
珩磨是利用安裝於珩磨頭圓周上的一條或(huò)多條油石,由漲開機構(gòu)將(jiāng)油石沿徑向漲開,使其壓向工件孔壁,以便產生一定的(de)接觸麵。同(tóng)時珩磨頭旋轉(zhuǎn)和往複運動。零件不(bú)動;或者珩磨頭隻做旋轉運動,工(gōng)件往複運動,從而實現珩磨。
珩磨的切削有(yǒu)三種模式:定壓進給珩磨、定量進給珩磨、定壓-定量(liàng)進給珩磨。
3.2珩磨加工的特點:
加工(gōng)精度高:特別是一些中小型通孔,圓柱度能達到0.001mm
表麵(miàn)質量好(hǎo):表麵為交叉網紋,有利於潤滑(huá)油的存(cún)儲及油膜的保持。
加工(gōng)範圍廣(guǎng):主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸向(xiàng)和徑向有間斷的孔
切(qiē)削餘量少。
糾孔能力強:采用珩磨加工工藝可以通過去除最少加(jiā)工餘量(liàng)而極大地改善孔和外圓的尺(chǐ)寸精度、圓度、直線度、圓柱度和表麵粗糙度。
3.3珩磨的切削過程(chéng)
定壓進給珩磨
定壓進(jìn)給中(zhōng),進(jìn)給機(jī)構以恒定的壓力壓向(xiàng)孔壁,分三個(gè)階(jiē)段。
第一(yī)個階段是脫落切削階段,這種定壓(yā)珩磨,開始時由於孔壁(bì)粗糙,油石與孔壁接觸麵積很小,接觸壓力大,孔壁的(de)凸出部分很快被磨去。而油石表麵因接(jiē)觸壓力大,加上(shàng)切屑對油石粘結劑的磨耗(hào),使磨(mó)粒與粘結劑的結(jié)合強度下降,因而有的(de)磨(mó)粒(lì)在切削壓(yā)力的作用下自行脫落,油石麵即露(lù)出(chū)新磨粒,此即(jí)油石自銳。
第二階段是破碎切削階段,隨著珩磨(mó)的進行,孔表麵越來越光(guāng),與油石接觸麵(miàn)積越(yuè)來越大,單位麵積的接(jiē)觸(chù)壓力下(xià)降,切削(xuē)效率降低。同時(shí)切下的切屑小而細,這些切屑對粘(zhān)結劑的磨耗也很小。
因此(cǐ),油(yóu)石磨粒脫落很少,此時磨削不是靠新磨粒,而是由磨粒尖端切削。因而(ér)磨粒尖端負荷很大,磨粒易破裂、崩(bēng)碎(suì)而形成新的切削刃。
第三階段為堵塞切削階段,繼續珩磨時油石和孔表麵的接(jiē)觸麵積越來越大,極細的切(qiē)屑堆積於油石與(yǔ)孔壁之間不易排除,造成油石(shí)堵塞,變得很光(guāng)滑。因此油石(shí)切削能力極低,相當於拋光。若繼續(xù)珩磨,油石堵塞嚴重而產生粘結(jié)性堵塞時,油石完全失去切削能力並嚴重發熱,孔的精度和表(biǎo)麵粗(cū)糙度(dù)均會受到影響。此時(shí)應盡(jìn)快結束珩磨。
定量進給珩磨
定量進給珩磨時,進給機構以(yǐ)恒定的速度擴張進給,使磨粒強(qiáng)製性(xìng)地切入工(gōng)件(jiàn)。因此珩磨過程隻存在脫落切削和破碎切削,不可能產生堵塞切削現象(xiàng)。
因為當油石產生堵(dǔ)塞切削力下降時,進給量大於實際磨削量,此時珩(héng)磨壓力(lì)增高,從而使磨粒脫落、破碎,切削作用(yòng)增強。
用此種(zhǒng)方法珩磨時,為了(le)提高孔精度和表(biǎo)麵粗糙度(dù),最後可用不進給珩磨一定時間。
定壓--定量進給珩磨
開始時以(yǐ)定壓進給珩磨,當油石進入堵(dǔ)塞切削階段時,轉換為定量進(jìn)給珩磨,以提高效率(lǜ)。最後可用不進給珩磨(mó),提高孔的精度和表麵粗糙度。