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磨削之研(yán)磨拋光、磨粒流與珩磨的區(qū)別

訪(fǎng)問量 : 0    編(biān)輯時間 : 2023-09-22    來源: 去毛刺機

磨削之研磨拋(pāo)光、磨粒流與(yǔ)珩磨(mó)的區別


1、磨(mó)粒流工藝

磨料流加工(AFM)工藝是理想的拋光和去毛刺(cì)方法,特別是對於複雜的內(nèi)部形狀和有挑戰的表麵加工要求。


磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱為(wéi)擠壓珩磨技術,起源(yuán)於20世(shì)紀60年代(dài),是一(yī)種區別於傳統機械加工的光整加工(gōng)方(fāng)法(fǎ)。利用具(jù)有一定黏性的流動磨料介質,在一定壓力作用下,通過引導流過工件的(de)待(dài)加工表麵(miàn),磨料對材料形成擠(jǐ)壓並進行微量去除,可以達到去除毛刺飛(fēi)邊、孔口倒圓等(děng)加工效果,重要的是可以降低待加工(gōng)表麵的粗糙度值,實現光整(zhěng)加工目的。得益於塑性極強的磨(mó)料,這種加工技術幾乎(hū)可以對任(rèn)意形狀的表麵進行光整加工,尤其是針對難(nán)以加工的複雜內腔表麵,能取得較好的光整加工效果,近年來這種技術在(zài)航空(kōng)、航天、汽車和模具等行業得到了廣(guǎng)泛應用。

1—活塞 2—工件(jiàn) 3—夾具 4—缸體

1.1工藝係統

磨粒流,簡單來說,就是一種(zhǒng)通過半流體介質進(jìn)行拋光去毛刺的工藝,主要麵向(xiàng)內孔、以及不規則形狀(zhuàng)的中小型工件。磨粒流(liú)拋光工藝(yì)包含三個(gè)核心要素,即軟磨料、夾具與PLC係統:

軟磨料

  軟磨料是由非常細小(xiǎo)的硬質顆粒,混合相關液體,調製而成(chéng)的半流體狀態(tài)的介質,磨料顆粒的(de)大小、硬度,以及半(bàn)流體的(de)粘稠度、遇熱後是否會黏貼(tiē)工件,是影響拋光去毛刺質量的關鍵。磨料(liào)通常選材有碳化矽、白剛玉、金剛石等,根據(jù)各自的硬度(dù),對應不同(tóng)材質的工件。例如鋁製(zhì)品(pǐn)、銅製(zhì)品工件,選用碳化矽磨料即可。而硬度較高的鎢鋼、合金(jīn)鋼,選用白剛玉或金剛石更(gèng)為合適(shì)。

工(gōng)裝夾(jiá)具

選用夾具(jù)的原(yuán)因(yīn)是,為了提高工件拋光去毛刺的效率。一來,一款夾具上可以同時夾持多個(gè)工件,一次性加工。二來(lái),使用工裝夾具後,退模換工件時,不必每次(cì)校準,大大減少了停機時間。

工裝夾具設計(jì)的關鍵在於,在提升效率的前提下,如何保持工(gōng)件均勻受力,而(ér)不致於使工件壓傷。

PLC係統

  PLC係統是整個磨粒流設備的控製中心,PLC係(xì)統(tǒng)設(shè)計地簡潔、規範,既可以讓操作人員更快(kuài)上手,減少(shǎo)培(péi)訓磨合時間,又可以減少設備故障率,延長設(shè)備使用壽命。

1.2磨粒(lì)流特點

(一)可(kě)加工內(nèi)腔複雜的零件

(二(èr))均勻性和重複(fù)性好

(三)可實現自動化生產

(四(sì))生產效(xiào)率高

(五)可控性及(jí)可預測性好

(六)加工表麵質好

1、研磨

研(yán)磨是將研磨工(gōng)具(以下簡稱研具)表麵嵌人磨(mó)料或敷塗(tú)磨料並添加潤滑劑,在一定的壓力作用下(xià),使工件和研具接觸並做相對運動,通過磨料作用,從工(gōng)件表麵切去一層極薄的切屑,使工件具有精確的(de)尺寸、準確(què)的幾何形狀和很高的表麵粗糙度,這種對工件表麵進行最終精密加工的方法(fǎ),叫做研磨。

1.1研磨的種類


濕研將液狀研磨劑塗敷(fū)或(huò)連續加注於研具表麵,使磨料(W14~W5)在被加工的產品與研具間不斷地滑動與滾動,從而實現(xiàn)對工件的切削(xuē)。濕研應用較多。

幹研將磨料(W3.5~W0.5)均(jun1)勻地壓嵌在研具表層上(shàng),研磨時需在研具表麵(miàn)塗(tú)以少(shǎo)量(liàng)的潤滑劑。幹研多用(yòng)於精研。

半幹研所用研磨劑為糊狀的研磨膏,粗、精研均可(kě)采用。

1.2研(yán)磨的(de)特點及應用範圍

設備簡單,精度要求高。


加工質量可靠。可獲得(dé)很高(gāo)的精度和很低的Ra值(zhí)。但一般不能提高加工麵與其他表麵之間的位置(zhì)精度。

可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁(lǚ)及其合金、硬質合金、陶瓷、玻璃及某些塑料(liào)製品等。

研磨廣泛用於單件小批生產(chǎn)中加工各種高精度型麵,並可用於大批大量生產中。


1.3研磨機理(lǐ)


研磨的實質(zhì)是用遊離的磨粒通過研(yán)具對工件表麵進行包括物理和化學綜合作用的(de)微量切前,其速度很低,壓力很(hěn)小,經過研磨的(de)工件可獲(huò)得0.001mm以內的尺(chǐ)寸誤差(chà),表麵粗糙度一般能達(dá)到R.=0.4~0.1μm,最小可達(dá)Ra=0.012μm,表麵幾(jǐ)何形狀精度和一些位置精度也可進一步提高。 

盡管研磨已廣(guǎng)泛應用於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝(yì)效果,但(dàn)人們對研磨過程的機理有多種觀點(diǎn)。

純切削說

這種觀點認為:研磨和(hé)磨削一樣,是一種純切削過程。最終精度(dù)的(de)獲得(dé)是由很多微小的硬磨粒對工(gōng)件表麵不斷切削,靠磨粒的尖劈、衝擊、刮削和擠壓作用,形成無數條切痕重疊、互相交錯(cuò)、互相抵消的加工麵。它與磨削的差別隻是磨粒顆粒較細,切(qiē)削運動不盡相同而已。這種觀點在實際過程中可以解釋許多現象,也能指(zhǐ)導(dǎo)工作。例如,研磨過程中使用的磨(mó)料粒度一序比一序細,而獲得的精度則一序比一序高。但這種觀點解釋不了用軟磨料加工(gōng)硬材料,用大顆粒磨粒卻能加工出(chū)低粗糙度表麵的(de)實例,顯然這種觀點不全麵。

塑性(xìng)變形說(shuō)

這種觀點認為在(zài)研磨時,表(biǎo)麵(miàn)發生了級性變形。即在工件與研具表麵接觸運(yùn)動(dòng)中,粗糙高凸的部位在摩擦、擠壓(yā)作用下被“壓平”,填充了低四處,而後形成極低的表麵粗糖度。住然而在研磨極軟材(cái)料(如鉛、錫等(děng))時,產生塑性變形是有(yǒu)可能的;而用軟基體拋光硬材料(liào)(如光學玻(bō)璃)時,則很難解釋為塑(sù)性變形。實(shí)際上,工件在研磨前後有質(zhì)量變化,這說明不是簡單的壓平過程。

化學作用說

這種觀點(diǎn)認為:被研磨表麵出現了化學變化過程。工件(jiàn)表麵活(huó)性物質(zhì)在化學作用下,很快就形成了一層化合物薄膜;這層(céng)薄膜(mó)具(jù)有化(huà)學保護作用,但能被軟質(zhì)磨料除掉。研磨過程就是工件表麵高凸部位形成的(de)化合物薄膜不斷被除掉(diào)又很快形成的過程,最後獲得較低的表麵粗糙度。然而,顯微分析表明,經研磨的表(biǎo)層約有微米程度的破壞層。這說明研(yán)磨不僅是磨料去(qù)除化合物(wù)薄膜的(de)不斷形(xíng)成過程,並且對表麵層有切削作用,而化學作用則加(jiā)速了(le)研磨過程。顯然化學作用說也不全麵(miàn)。

綜上所述,研磨過程不可能由一種觀點來解(jiě)釋。事(shì)實上,研磨是磨粒對工件(jiàn)表麵的切削、活性物(wù)質的化學作用及工件表麵擠壓變形等綜合作用的結果。某一作(zuò)用的主次程度取決於(yú)加工性質及加工過程的進展階段。

2、拋光

拋光是指利用機械、化學或電化(huà)學(xué)的作用,降低工件表麵粗糙度,獲得光亮、平整(zhěng)表麵的加工方法。主要是利用拋光工具(jù)和磨(mó)料顆粒等對工件表麵進(jìn)行的修飾加工。

2.1拋光的分類


機(jī)械拋光


機械拋光是靠切削或使材料表麵發生(shēng)塑(sù)性變形而去掉工件表麵凸出部得到平滑麵的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作(zuò)為(wéi)主,表麵質量要求高的可(kě)采用超(chāo)精研拋的方法。超精研拋是采用(yòng)特製的磨(mó)具,在含有磨料(liào)的研拋液中,緊壓在工(gōng)件(jiàn)被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可達到Ra0.008 μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法中表麵粗(cū)糙度(dù)最好(hǎo)的。光學鏡片模(mó)具常采用這種方法。

化學(xué)拋光


化學拋光是材料在化學介(jiè)質中讓表麵微觀(guān)凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得到平滑麵。該方(fāng)法可以(yǐ)拋光形(xíng)狀複雜的工件,可以(yǐ)同時拋光很多工件,效率高。化學拋光得到的表麵粗糙度一般(bān)為(wéi)Ra10 μm。

電解拋光


電解拋光基(jī)本原理與化(huà)學拋光(guāng)相同,即靠選擇性溶解材料表麵微小凸出部分,使表麵光滑。與化(huà)學拋光(guāng)相比,它可消除陰(yīn)極反應的影響,效果較好。

超聲波拋光


超聲拋光是利用工具斷麵作超聲波(bō)振動,通過磨料懸(xuán)浮液拋(pāo)光脆硬材(cái)料的(de)一種加工方法。將工件放入磨(mó)料懸浮液中並一(yī)起置於超聲波場中,依靠(kào)超聲波的振蕩(dàng)作用,使磨料在工件(jiàn)表麵磨削拋光。

流體拋光


流(liú)體拋(pāo)光是依(yī)靠流動的液體及(jí)其攜帶的磨粒衝刷(shuā)工件表麵達到(dào)拋光的目的。流體動力研(yán)磨是由液壓驅動,介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化(huà)合物(聚合物(wù)狀物質)並摻入(rù)磨料製(zhì)成,磨料(liào)可采用(yòng)碳化(huà)矽粉末。

磁研(yán)磨拋光


磁(cí)研磨拋光是利用磁性磨料在(zài)磁場作用下形成磨(mó)料刷,對工(gōng)件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加(jiā)工條(tiáo)件容易控製。。

電(diàn)火花超聲複合拋光


為了提(tí)高(gāo)表麵粗糙度Ra為1.6 μm以上工件的拋光速度,采用超聲波與專(zhuān)用的高頻窄脈衝高峰值電流的脈衝電源進行複合拋光,由超聲振動和電脈衝的腐蝕(shí)同時(shí)作(zuò)用於工件表麵,迅速降低其表麵(miàn)粗糙度。

2.2拋光的工藝過程


粗拋


精銑、電(diàn)火花加工、磨削等工藝後的表麵(miàn)可以選(xuǎn)擇轉速在35 000~40 000 r/min的旋轉表(biǎo)麵拋光機進行拋光。然後是手工油(yóu)石研磨,條狀油石加煤(méi)油作為潤(rùn)滑劑(jì)或冷卻(què)劑。使用順(shùn)序為180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。

半精拋


半精(jīng)拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙(zhǐ)隻用適(shì)於淬硬(yìng)的模具鋼(52 HRC以上),而不適用於預硬鋼,因為這樣(yàng)可能會導(dǎo)致預硬鋼件表麵損傷,無法達到預期拋光效果。

精拋


精拋主要(yào)使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽石研磨粉(fěn)或研磨膏進行研磨,則通常的研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去(qù)除(chú)1 200#和(hé)1 50 0#號砂紙留下的發狀磨痕。

4、珩磨

在對零件加工的過程中,會使用到(dào)多種工藝,其中珩磨加工是對孔進(jìn)行精整加工的一種加工方式。

珩磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一定進給壓力下,通過工具和零件的(de)相(xiàng)對運動去除加工餘量,其切削軌跡為交叉網紋的精(jīng)孔加工工藝。


3.1珩磨原理


珩(héng)磨是利用安裝於珩磨頭圓周上的一條或多(duō)條油(yóu)石,由漲開機構將油石沿徑向漲開,使其壓向工件孔壁,以便產生一定(dìng)的接觸麵。同時珩磨頭旋轉和往複運動。零件不動;或者珩磨頭隻做旋轉運動,工件往複(fù)運動,從而實現珩磨。


珩磨的切削有三(sān)種模式:定壓進給珩磨、定量進給(gěi)珩磨、定壓-定量進給珩磨。

3.2珩磨加工的特點(diǎn):


加工精(jīng)度高:特別是一些中小型通孔,圓柱度能達到0.001mm


表(biǎo)麵質量(liàng)好:表麵為交叉網紋,有利於潤滑油的存儲及油膜的保持。


加工範圍廣:主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸向和徑(jìng)向有間斷的孔(kǒng)


切削餘量少。


糾孔能力(lì)強:采用珩磨加工工藝(yì)可以通過去除最(zuì)少加工餘量而極大地改善孔和外圓的尺寸精度、圓度、直線度、圓柱度和表麵粗糙度。


3.3珩磨(mó)的切(qiē)削過程


定壓進給珩磨


定壓進給中,進給機構以恒定的壓力壓向孔壁,分三個階(jiē)段。

第一個階段是脫落切削階段,這種定壓珩磨,開始(shǐ)時由於孔壁粗糙,油石與孔壁接觸麵積很小,接觸壓力(lì)大,孔壁的凸出部分很快被磨去。而(ér)油石表麵因接觸壓力大,加上切屑對油石粘(zhān)結劑的(de)磨(mó)耗,使磨粒與粘結劑的結合強度下降(jiàng),因而有(yǒu)的磨粒在切削壓力的作用下(xià)自行脫(tuō)落,油石麵即露出新(xīn)磨粒(lì),此即油石自銳。


第(dì)二階(jiē)段是破碎切削階段,隨著珩磨的進行,孔表麵越來越光,與油石接(jiē)觸麵積越來越大,單位麵積的(de)接觸壓力下降,切削效率降低。同時切下的切屑小而細,這些切屑對粘(zhān)結劑的磨耗也很小。

因此,油石磨粒脫落很少,此時磨削不是靠新磨粒,而是由磨粒尖端(duān)切(qiē)削。因而(ér)磨(mó)粒尖端負荷很大(dà),磨粒易破裂、崩碎而形成新的切(qiē)削刃。

第(dì)三階段為堵塞切削階段,繼續珩磨時油石(shí)和孔表麵的接觸麵(miàn)積越來(lái)越大,極細的切屑堆積於(yú)油石與孔壁之間不易排除,造成油石(shí)堵塞,變得很光滑。因此油(yóu)石切削能力極低,相當於拋(pāo)光。若繼續珩磨,油石堵塞嚴重而產生粘結性堵(dǔ)塞時,油石完全失去切削能力並嚴重發熱,孔的精(jīng)度和表麵粗糙度均會受到影響。此時應盡(jìn)快(kuài)結束珩磨。

定量進給珩磨


定量進給珩磨時,進給(gěi)機構以恒定的(de)速(sù)度擴張進給,使磨粒強製性地切入工件。因此珩磨過程隻存在脫(tuō)落切削和破碎切削,不可能產生堵塞切削(xuē)現象。

因為當油(yóu)石產生堵塞切削力下降時(shí),進給量大於實際磨(mó)削量,此時珩磨壓力增高,從而使磨(mó)粒脫落、破碎,切削作用增強。

用此種(zhǒng)方法珩磨(mó)時,為了提高孔精度和表麵粗糙度,最後可用不進(jìn)給珩磨一定時(shí)間。

定壓--定量進給珩磨


開始時以定壓進給珩磨,當油石進入(rù)堵塞(sāi)切(qiē)削(xuē)階段時,轉換為定量進給珩磨,以提(tí)高效率。最後可用不進給珩磨,提高孔的精度和(hé)表(biǎo)麵(miàn)粗糙度。



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